第43回ドライプロセスシンポジウムにて当社論文が採択
伸和コントロールズ株式会社（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：山本拓司）は、2022年11月24日・25日に開催される、第43回ドライプロセスシンポジウム（DPS2022）において、社員が執筆した論文「Feedforward temperature control and failure prediction technologies for intelligent subsystems（サブシステムをインテリジェント化するためのフィードフォワード温度制御技術と故障予知技術の開発）」が採択されました。
当社として国際学会で英文の論文が採択されたのは、初めてとなります。
ドライプロセスシンポジウム（正式名称：International Symposium on Dry Process）は、40年以上の歴史を持つ、ドライエッチング[1]やCVD[2]関連で最も評価の高い国際学会の一つです。
当社の主力製品、チラーはドライエッチング装置等に付帯して使用されます。昨今、スマートファクトリ化が進む中で、装置が自己診断して自ら運転条件の最適化を行うことや、故障予知を行う自立型の装置、いわゆるインテリジェント・ツールの需要が高まっています。
当社はこれらの業界における最先端の需要をいち早く捉え、インテリジエント・ツールの開発に取り組みました。その結果、この最先端の開発が評価され、今回の論文採択に至りました。
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第43回ドライプロセスシンポジウム（DPS2022）開催概要
開催日 ：2022年11月24日（木）・25日（金）
開催形態：ハイブリット開催（会場/グランキューブ大阪・オンライン）
公式HP ：http://www.dry-process.org/2022/index.html
※参加には、事前の参加登録手続きが必要です。公式HPよりご確認ください。
《当社の論文発表について》
発表日時：2022年11月24日（木）18:40～20:00
発表会場：オンライン
発表者 ：池田 陽介（伸和コントロールズ株式会社）
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■この件についてのお問合せ 伸和コントロールズ株式会社 経営企画本部 広報課 向山・田中
電話：044-986-1861 電子メール: info@shinwa-cont.com
[1] 半導体製造工程において、イオンを使ってIC回路を形成する工程のこと。
[2] 日本語で「化学気相成長」といい、半導体の製造工程において、半導体の表面に薄い膜を堆積させる薄膜形成装置（CVD装置）として技術が使用されている。
